શા માટે ગેલ્વેનાઈઝ્ડ વાયર ઓક્સિજન અને સ્પાર્કમાં હિંસક રીતે બળે છે?

ગેલ્વેનાઈઝ્ડ વાયરનો મોટો રોલ ઓક્સિજન અને સ્પાર્ક્સ રેડિયેટમાં હિંસક રીતે ઓલવાઈ જાય છે, જ્યારે સોડિયમ બ્લોક અને મેગ્નેશિયમ બાર ઓક્સિજનમાં ઓલવાઈ જાય છે અને કોઈ સ્પાર્ક ફેલાતો નથી.આ ઘટના ગેલ્વેનાઈઝ્ડ વાયરના મોટા રોલ્સની રચના દ્વારા નક્કી કરવામાં આવે છે.પ્રયોગમાં ઉપયોગમાં લેવાતા ગેલ્વેનાઈઝ્ડ વાયરના મોટા રોલ પિગ આયર્ન અથવા સ્ટીલ વાયર છે, જે બંને આયર્ન અને કાર્બનના એલોય છે (આયર્ન અને કાર્બન તત્વો ધરાવતા જટિલ પદાર્થો).જ્યારે ગેલ્વેનાઈઝ્ડ વાયરમાં કાર્બન ઓલવાઈ જાય છે, ત્યારે કાર્બન ડાયોક્સાઇડ ઉત્પન્ન થશે, અને ઘન ગેસમાં બદલાઈ જશે, અને વોલ્યુમ ઝડપથી સંકોચાઈ જશે.
ગેલ્વેનાઈઝ્ડ વાયરને કાર્બનમાં લપેટી લોખંડ તરીકે જોઈ શકાય છે, જ્યારે ઓલવાઈ જાય છે, ત્યારે સપાટી છીછરા કાર્બન સાથે સરખાવી શકાય છે જે ઓક્સિજન સાથે સંપર્ક કરી શકે છે, કાર્બન ડાયોક્સાઇડ ગેસ ઉત્પન્ન કરી શકે છે, તેને લોખંડમાં લપેટી શકે છે (આ પીગળેલી સ્થિતિ છે) રેડિયેશન અંદર. કાર્બન વધુ હોય છે. માં છેગેલ્વેનાઈઝ્ડ વાયર, તે સ્પાર્ક થવાની શક્યતા વધુ છે.આયર્ન-કેસ્ડ કાર્બન ડાયનામાઈટ બેગમાં ડાયનામાઈટ જેવું છે, જે લોખંડને સમયાંતરે ઉડાડી દે છે.

સોડિયમ અને મેગ્નેશિયમમાં ઓછી જ્વલનશીલ અશુદ્ધિઓ હોય છે, અને જ્યારે ઓલવાઈ જાય છે, ત્યારે તે ફક્ત ચમકે છે.ગેલ્વેનાઇઝિંગ ઇલેક્ટ્રોકેમિકલ પ્રોસેસિંગ પ્રક્રિયાથી સંબંધિત છે જેનો વ્યાપકપણે સ્ટીલની સપાટી પર ઉપયોગ થાય છે.તેથી, સૌ પ્રથમ, કારણ કે ઝીંક કોટિંગ (ખાસ કરીને પૂરક પ્રક્રિયા પછી, જેમ કે ક્રોમેટ ટ્રીટમેન્ટ અને ફોસ્ફેટિંગ) વાતાવરણ અને પાણીનો પ્રતિકાર વધુ સ્થિર છે, અને ગેલ્વેનાઈઝ્ડ પ્રક્રિયા પોતે જ સસ્તી અને સરળ છે.
સ્ટીલ અને ફેરસ ધાતુ પર ઝીંક કોટિંગ એનોડિક ભૂમિકા ભજવે છે, તે સામાન્ય રીતે તે ભાગો માટે ઉપયોગમાં લેવાય છે જે વાતાવરણીય અથવા પાણીની ક્રિયાને આધિન હોય છે, પરંતુ ઝીંક કોટિંગ ત્યારે જ થાય છે જ્યારે પાણીનું તાપમાન 60℃થી નીચે હોય, એનોડ ગુણધર્મો.જ્યારે તાપમાન વધારે હોય છે, ત્યારે સંભવિત ફેરફારો થાય છે અને ઝીંકથી આયર્ન કેથોડ બને છે.તેથી, ગરમ પાણી (જેમ કે સ્ટીમ બોઈલર) ને આધિન ભાગો માટે, જસતનું હાડપિંજર લગભગ 70 માઇક્રોન જાડું અને રદબાતલ મુક્ત હોવું જોઈએ.નીચા અથવા સામાન્ય તાપમાન અથવા વાતાવરણીય ક્રિયાને આધિન ભાગો માટે, પિનહોલ્સ વિના ઝીંક કોટિંગ જરૂરી નથી.
મોટા રોલ ગેલ્વેનાઈઝ્ડ વાયર ઝીંક-ચીન લેયરનું ઈલેક્ટ્રોલાઈટીક ડિપોઝિશન મૂળભૂત રીતે નીચેના બે પ્રકારના ઈલેક્ટ્રોલાઈટ છે: ઝીંક મુખ્યત્વે દ્રાવણમાં ઝીંક કેશન હાઈડ્રેશનના સ્વરૂપમાં હોય છે;ઝીંક મુખ્યત્વે જટિલ આયન તરીકે ઉકેલમાં હાજર છે.એસિડ ઇલેક્ટ્રોલાઇટ એક વર્ગનો છે, જટિલ સાયનાઇડ અને ઝિંકેટ ઇલેક્ટ્રોલાઇટ, અને નિકલ સલ્ફેટ ઇલેક્ટ્રોલાઇટ બીજા વર્ગની રચના કરે છે.સાયનાઇડ ઇલેક્ટ્રોલાઇટ અને એસિડ ઇલેક્ટ્રોલાઇટનું ખૂબ મહત્વ છે.